目的:探讨正畸治疗中影响微种植支抗位移的因素.方法:选择26例拔除上颌第一前磨牙的安氏Ⅱ1类正畸病例共52颗微种植钉作为研究对象,男5例,女21例,年龄14～25岁.在上颌第一磨牙和第二前磨牙牙根之间植入微种植钉作支抗,随机选择加载时机、施力方式和施力的初始力值,根据临床需要选择力作用线与(牙合)平面夹角和施力持续时间.分别在施力前后拍摄头颅侧位定位片,测量种植钉头部在施力前后的位置变化.通过单个样本的t检验比较施力前后种植钉的位移量变化:用独立样本t检验比较不同性别及不同施力方式对种植钉的位移量的影响:以种植钉的位移量(D)为应变量,以加载开始时间(W)、施力持续时间(T)、施力的初始力值(F)、力作用线与(牙合)平面夹角(A)、年龄(Y)为自变量,通过多元逐步回归法建立多元回归方程,用以分析各自变量对应变量的影响作用.结果:施力后种植钉的位移量为0.42±0.28 mm (P＜ 0.05),性别和施力方式对种植钉位移量的影响无统计学意义(P＞0.05).白变量与应变量依存关系的多元回归方程为:D=0.5467-0.0751W+0.0168T-0.0219Y.结论:施力后微种植支抗可产生位移,位移量的大小与加载开始时间、施力持续时间和年龄有关.
作者：谢卫江；钟小龙；秦媛
来源：临床口腔医学杂志 2012 年 28卷 5期
