目的:观察与黑素结合的羟基氯喹(HCQ)对Fenton反应瞬时产生羟自由基([·OH])的清除能力,以阐述抗疟药物的抗炎和抗皮肤光敏感性作用的分子机制.方法:利用Fenton反应瞬时产生[·OH],将不同浓度的HCQ和细菌衍生黑素结合后加入Fenton反应体系,用5,5-二甲基-1-吡咯啉-N-氧化物(DMPO)捕捉[·OH],用电子自旋共振(ESR)仪记录DMPO-OH特征波谱,通过测量反应体系中自由基的减少量算出该样品对[·OH]的清除率.结果:细菌衍生黑素在20～100 mg/L浓度范围对自由基的清除呈剂量依赖性,在100 mg/L浓度时对[·OH]的清除率达92.5％; HCQ对[·OH]的清除呈非剂量依赖性,50 μmol/L HCQ呈现出最大的清除率(43.72％)；10 μmol/L HCQ与黑素结合后对[·OH]清除能力与单纯HCQ组相比显著增加(P＜0.05),提高与黑素结合的HCQ浓度并不能增加对自由基的清除率.结论:一定浓度的HCQ与黑素结合可增加皮肤细胞对活性氧基的瞬时清除能力.
作者：陈俊佑；刘小明；史赢；雷铁池
来源：临床皮肤科杂志 2012 年 41卷 9期
