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目的:验证牙菌斑中超氧化物阴离子自由基与菌斑氧化还原电位的关系.方法:①测试菌斑氧化还原电位.②利用SOD作为干扰因素观察氧化还原电位的变化.结果:菌斑电位低于非菌斑牙面电位,为负电位.菌斑加SOD后使菌斑电位升高.结论:菌斑负电位与超氧化物阴离子自由基有关,自由基可能是菌斑负电位形成的主要因素.

作者:阎鹏;黄力子;王成龙;唐荣银;李刚;李洁

来源:实用口腔医学杂志 1999 年 15卷 4期

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作者:
阎鹏;黄力子;王成龙;唐荣银;李刚;李洁
来源:
实用口腔医学杂志 1999 年 15卷 4期
标签:
牙菌斑 氧化-还原电位 龋齿 超氧化物 阴离子 自由基 超氧化物歧化酶
目的:验证牙菌斑中超氧化物阴离子自由基与菌斑氧化还原电位的关系.方法:①测试菌斑氧化还原电位.②利用SOD作为干扰因素观察氧化还原电位的变化.结果:菌斑电位低于非菌斑牙面电位,为负电位.菌斑加SOD后使菌斑电位升高.结论:菌斑负电位与超氧化物阴离子自由基有关,自由基可能是菌斑负电位形成的主要因素.