目的：比较釉瓷上釉和不同打磨抛光磨头处理后，烤瓷表面粗糙度的不同，为临床选择抛光方法提供实验依据。方法：制作圆盘状瓷片70片，随机分为7组（n ＝10）。以釉瓷上釉作对照为第1组，第2组至第7组均用松风氧化铝白砂石打磨，第2组打磨后不做处理；第3组打磨后使用松风 Ceramiste 烤瓷抛光套装磨头抛光；第4组在第3组的基础上加用松风Ceramaster 精细烤瓷抛光磨头抛光；第5组打磨后使用德国固美（Komer）烤瓷抛光套装磨头抛光；第6组打磨后使用固美氧化锆抛光磨头抛光；第7组打磨后使用德国 EVE 氧化锆抛光磨头抛光。对瓷片进行轮廓算术平均偏差（Ra）、轮廓的微观不平度十点高度（Rz）、最大轮廓峰高（Rp）的测量，使用 SPSS 16．0统计软件对测量值进行单因素方差分析，并采用扫描电镜对表面形态进行观察。结果：第2、3组的 Ra、Rp 值均大于第1组（P ＜0．05）；第4、5、6、7组的 Ra、Rp 值与第1组差异无显著性（P ＞0．05）；第2、3、4、5组的 Rz 值均大于第1组（P ＜0．05）；第6、7组的 Rz 值与第1组无显著性差异（P ＞0．05）。电镜下观察第6、7组与第1组瓷面平整度相似；第4、5组瓷面较平整，凹坑较少；第2、3组瓷面棱脊、凹坑较多。结论：使用打磨颗粒为微米级超细天然金刚砂的抛光磨头能达到
作者：任辉；蔡晓彤；唐卫峰
来源：实用口腔医学杂志 2016 年 32卷 3期
