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以恩诺沙星为模板分子,甲基丙烯酸为功能单体,三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯为交联剂制备恩诺沙星印迹聚合物,并通过吸附试验优化其合成条件.通过扫描电镜、红外光谱分析和吸附试验表征印迹聚合物的性质,并测定了各印迹聚合物在4种不同pH值介质中的药物释放性能.当模板分子∶功能单体∶交联剂的比例为1∶8∶6时合成的印迹聚合物的吸附性能最佳.Scatchard模型分析显示,最佳条件下制备的印迹聚合物的最大表观结合量为66.8 mg/g.该印迹聚合物重新载药后的体外释放行为呈pH依赖性,但突释现象较严重.

作者:王董云;李庆;杜盼;戈延茹;戚雪勇

来源:中国医药工业杂志 2014 年 45卷 6期

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作者:
王董云;李庆;杜盼;戈延茹;戚雪勇
来源:
中国医药工业杂志 2014 年 45卷 6期
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恩诺沙星 分子印迹聚合物 制备 体外释放 enrofloxacin molecularly imprinted polymer preparation in vitro release
以恩诺沙星为模板分子,甲基丙烯酸为功能单体,三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯为交联剂制备恩诺沙星印迹聚合物,并通过吸附试验优化其合成条件.通过扫描电镜、红外光谱分析和吸附试验表征印迹聚合物的性质,并测定了各印迹聚合物在4种不同pH值介质中的药物释放性能.当模板分子∶功能单体∶交联剂的比例为1∶8∶6时合成的印迹聚合物的吸附性能最佳.Scatchard模型分析显示,最佳条件下制备的印迹聚合物的最大表观结合量为66.8 mg/g.该印迹聚合物重新载药后的体外释放行为呈pH依赖性,但突释现象较严重.