目的探讨不同浓度的超氧阴离子(O-2)和过氧化氢(H2O2)与抗辐射菌(Dr)增殖的关系.方法利用细胞色素C还原法测定正常状态下和受不同剂量照射后Dr的O-2释放,加入还原型辅酶Ⅱ(NADPH)氧化酶抑制剂DPI,观察在同样条件下Dr的O-2释放和增殖的变化.利用激光共聚焦显微镜测定受照后Dr内H2O2浓度变化.用3H-TdR掺入法测定上述条件下Dr的增殖.结果Dr中O-2、H2O2的释放与其增殖有关,较小剂量(＜1 kGy)照射能刺激Dr增殖并释放O-2、H2O2,较大剂量下该效应被抑制.结论适当浓度的O-2、H2O2对于Dr的增殖是必要的.
作者：陈剑；刘芬菊
来源：中华放射医学与防护杂志 2005 年 25卷 6期
