目的研究西尼地平的光稳定性.方法以西尼地平原料、西尼地平甲醇溶液、西尼地平片剂溶出液为对象,分别用强光(4 500lx)或自然光照射,用HPLC法测定光照射后的降解产物,以HPLC-M S研究光降解产物的结构,并研究自然光对片剂溶出度测定的影响.结果西尼地平原料、西尼地平甲醇溶液对光敏感,在强光(4 50 0lx)照射下分解生成Z-异构体.自然光可影响西尼地平片剂的溶出度测定,在不避光时西尼地平片剂溶出液吸收度下降,溶出度测定结果偏低.结论西尼地平对光敏感,西尼地平及其制剂均应该避光保存,西尼地平制剂的溶出度测定时应注意避光操作.
作者：雷一鸣；丁劲松；张毕奎；程泽能；李焕德
来源：中南药学 2003 年 1卷 1期
