目的：观测经枕下乙状窦后入路手术路径中,显微镜下磨除内听道后壁所涉及的重要解剖结构及相关解剖学参数,以指导术中安全磨除内听道后壁。方法模拟枕下乙状窦后入路,对6具(12侧)国人湿性头颅标本显微镜下行磨除内听道后壁,以内听道内口后缘中点(P 点)作为参照点,分别测量 P 点至弓状隐窝、后半规管、共脚、内听道底、前庭导水管外口、颈静脉孔的最短距离,对这些结构拍照记录,所得测量结果行统计学处理。结果以内听道后壁作为参照平面,测得内听道干与后壁平面所呈夹角为47.3°±17.2°。以 P 点作为参照点,测得 P 点至弓状隐窝的最短距离(4.10±0.60) mm,P 点至后半规管最短距离(7.39±0.44) mm,P 点至共脚的最短距离(8.09±0.47)mm,P 点至内听道底距离(9.08±0.59)mm,P 点至前庭导水管外口(10.44±0.73)mm,P 点至颈静脉孔最短距离(7.35±1.09)mm。结论枕下乙状窦后入路磨除内听道后壁,其磨除长度不应超过7 mm,可减少半规管及共脚的损伤概率。熟悉磨除内听道后壁过程中容易损伤的结构,可避免损伤半规管、颈静脉球、前庭导水管外口及内淋巴囊等重要解剖结构。
作者：尹志杰；金保哲；周文科
来源：中华解剖与临床杂志 2016 年 21卷 5期
