目的：应用基于高分辨 MRI 结构成像（sMRI）、表面基础形态测量学（SBM）的皮层测量方法，分析幼儿148个脑区的皮层厚度（CT）、皮层表面积（SA）及平均曲率（AV）等参数，探讨皮层厚度等皮层形态学参数与幼儿智力发育水平的相关性。方法：对13例健康幼儿受试者进行智力发育水平评分。采用 Siemens 3．0T MR 机对所有纳入对象进行高分辨率的3D T1脑结构图像采集。使用基于 SBM 的方法获取每个被试者148个脑区的 CT、SA、AV 等参数，逐一对每个脑区皮层参数与幼儿智力发育水平评分进行相关性分析。结果：对受试者大脑半球皮层参数与智力量表评分的相关性分析中发现，SA 与智力量表评分存在相关性的脑区集中于语言及社交相关区，即额下回脑沟局部区域，大部分呈负相关，如右脑额下回 SA 与量表中适应性评分的相关系数 r＝-0．646（P ＝0．017），与量表中语言评分的相关系数值 r ＝-0．576（P ＝0．039）；AV 与智力量表评分存在相关性的脑区集中于视听、高级整合功能区的颞下回及顶下区，大部分呈负相关，如颞下回 AV 与量表中精细动作评分的相关系数 r＝-0．716（P ＝0．002）；而 CT 与智力量表评分相关的脑区主要为语言区及与人脸识别相关的侧副横沟前部脑区，呈负相关，如右脑侧副横沟前部 CT 与量表
作者：曲海波；吕粟；肖媛；张文静；宁刚；杨海波
来源：放射学实践 2014 年 8期
