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喜树碱经H2O2氧化所制得的喜树碱N-氧化物,于酸性条件下经紫外线照射在10-位引入羟基,最后经柱色谱分离纯化得到纯度98
作者：张玲
来源：中国医药工业杂志 2004 年 35卷 3期
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