目的 探讨电离辐射联合吉非替尼对NSCLC耐药株H1975耐药突变、细胞凋亡及相关蛋白表达的影响及其可能机制.方法 实时荧光定量PCR对不同处理组H1975细胞的T790M突变进行相对定量分析;流式细胞仪检测不同处理组H 1975细胞的凋亡率;免疫印迹检测不同处理组凋亡相关蛋白的表达水平.结果 2.5 Gy电离辐射组相较于0 Gy对照组,H1975细胞株T790M突变量降为原来的0.67倍,随电离辐射剂量的增高,T790M突变量降低(P＜0.05);电离辐射联合吉非替尼组的细胞凋亡率为(44.35±8.49)％,相较于单独电离辐射组(21.84±5.62)％或吉非替尼组(17.38±6.78)％明显升高(P＜0.05);电离辐射联合吉非替尼可诱导H1975细胞中磷酸化表皮生长因子受体(phosphorylated epidermal growth factor receptor,p-EGFR)、磷酸化蛋白激酶B(phosphorylated protein kinase B, p-AKT)蛋白表达水平明显下调.结论 在吉非替尼耐药的NSCLC细胞株H1975中,电离辐射可以克服吉非替尼耐药,与吉非替尼有良好的协同作用.
作者：李静；武新虎；李兵；王振；沈泽天；孙妮；朱锡旭
来源：肿瘤防治研究 2015 年 42卷 11期
